西湖大学孵化企业突破碳化硅衬底技术,助力新能源半导体产业升级
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西湖大学孵化的西湖仪器成功开发出12英寸碳化硅衬底自动化激光剥离技术,解决了超大尺寸碳化硅衬底切片难题,有望推动新能源和半导体产业的迭代升级,降低碳化硅器件制造成本。
记者27日从西湖大学获悉,由该校孵化的西湖仪器(杭州)技术有限公司(以下简称“西湖仪器”)成功开发出12英寸碳化硅衬底自动化激光剥离技术,解决了12英寸及以上超大尺寸碳化硅衬底切片难题,这一突破有望推动新能源和半导体产业的迭代升级。
碳化硅材料因其更宽的禁带能隙、更高的熔点和电子迁移率,以及卓越的热导率,能在高温、高电压条件下稳定工作,成为新能源和半导体领域的关键材料。然而,碳化硅衬底材料成本高昂,阻碍了其大规模应用。
西湖大学工学院讲席教授仇旻指出,碳化硅行业降本增效的关键在于制造更大尺寸的衬底材料。12英寸碳化硅衬底相比6英寸和8英寸,单片晶圆上可用于芯片制造的面积更大,能显著提升芯片产量,并降低单位芯片制造成本。据预测,到2027年,全球碳化硅功率器件市场规模将达67亿美元,年复合增长率高达33.5%。
为响应市场需求,西湖仪器在推出8英寸导电型碳化硅衬底激光剥离设备后,迅速研发出超大尺寸碳化硅衬底激光剥离技术,将超快激光加工技术应用于碳化硅衬底加工,完成了相关设备和集成系统的开发。
该技术实现了碳化硅晶锭减薄、激光加工、衬底剥离等过程的自动化,与传统切割技术相比,激光剥离过程无材料损耗,原料损耗大幅下降,出片时间大幅缩短,适用于未来超大尺寸碳化硅衬底的规模化量产,将促进行业降本增效。
(文章来源:科技日报)
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