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中关村科学城正式发布《中关村科学城集成电路流片补贴申报指南》,旨在支持海淀区集成电路设计企业,特别是针对多项目晶圆(MPW)及工程产品首轮流片(全掩膜),单个企业补贴最高可达1500万元。

  南方财经2月15日电,《中关村科学城集成电路流片补贴申报指南》2月14日正式发布,该指南旨在支持海淀区从事集成电路设计业务的企业,特别是针对多项目晶圆(MPW)及工程产品首轮流片(全掩膜),单个企业补贴最高可达1500万元。此举将极大促进集成电路设计企业的创新与发展。

  对于境内开展先进制程(14nm及以下)工程产品首轮流片(全掩膜)的企业,政府将按照不超过产品流片费用的30%给予奖励,单个企业奖励上限为800万元。而对于在境内开展成熟制程(14nm以上)工程产品首轮流片(全掩膜)的企业,奖励比例为不超过流片费用的20%,单个企业上限为500万元。此外,对于在境外开展先进制程工程产品首轮流片的企业,奖励比例为不超过流片费用的15%,单个企业奖励上限同样为500万元。

(文章来源:南方财经网)