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日本政府计划在2025年下半年向Rapidus公司投资1000亿日元,用于购买极紫外线(EUV)光刻装置等设备,以支持其2027年的大规模量产计划。

12月26日最新消息,日本政府已规划在2025年下半年向Rapidus公司投资1000亿日元(折合人民币约46亿元)。据透露,这笔资金将来自现有股东与新股东的资本参与,总额预计接近1000亿日元,日本政府将等额出资。Rapidus公司计划利用这笔资金额外采购极紫外线(EUV)光刻装置等设备,以支持其从2027年开始的大规模量产计划。此举标志着日本政府在半导体领域加大投资力度,推动本土半导体产业发展。(共同社)

(文章来源:界面新闻)