方正证券发布光刻机市场深度报告
AI导读：
方正证券发布机械设备行业深度报告，详细剖析了光刻机市场的规模、格局以及国内光刻机市场的现状，指出全球光刻机市场空间广阔，但国内光刻机国产化率极低，自主可控成必然趋势。
财中社1月13日电方正证券最新发布的机械设备行业深度报告聚焦于光刻机专题（一），详细剖析了光刻机市场的规模与竞争格局。
报告指出，全球光刻机市场空间广阔，2021年至2023年的市场规模预计分别为145亿欧元、164亿欧元和244亿欧元。从细分类型来看，浸没式光刻机和EUV光刻机虽然需求量相对较小，但因其价格高昂，市场规模显著超过其他类型的光刻机。
在竞争格局方面，光刻机作为半导体设备的尖端产品，市场集中度极高。EUV光刻机市场几乎被ASML独家垄断，而ASML在浸没式光刻机市场的占有率也超过了90%。在较为成熟的KrF和i-line领域，日本的Canon和Nikon则占据了重要位置。
针对国内光刻机市场，报告强调，尽管光刻机整机市场规模庞大，但国产化率极低。面对美方联合荷兰对我国半导体产业的制裁，光刻机全产业链的国产化已成为自主可控的必然趋势。
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