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国家知识产权局发布《集成电路布图设计保护条例修改草案(征求意见稿)》,旨在优化保护体系,强化知识产权保护力度,促进半导体行业健康发展。

证券时报e公司讯,为进一步优化集成电路布图设计保护体系,强化知识产权保护力度,促进半导体行业健康发展,国家知识产权局近期正式发布了《集成电路布图设计保护条例修改草案(征求意见稿)》,并面向社会各界广泛征求宝贵意见。

此举旨在通过修订条例,明确界定布图设计的权利范围,提升保护水平,为集成电路设计企业提供更加坚实的法律保障,进一步激发创新活力,推动国内集成电路产业迈向更高水平。

(文章来源:证券时报网)