Rapidus安装日本首台EUV光刻机，2nm芯片量产在即
AI导读：
Rapidus在北海道在建芯片工厂安装日本首台ASML极紫外(EUV)光刻设备，与IBM合作计划2025年开发2nm原型芯片，2027年实现量产。
Rapidus公司正在北海道的在建芯片制造工厂中，着手安装日本首台ASML极紫外(EUV)光刻设备，这一举措标志着日本在半导体制造领域向前迈出了重要一步。Rapidus与IBM携手合作，目标是在2025年春季利用最先进的2nm工艺技术开发出原型芯片，并计划在2027年正式实现量产。这一项目不仅展示了Rapidus在半导体制造方面的雄心壮志，也反映了全球半导体行业对于先进制程技术的持续追求。
（文章来源：财联社）
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