光刻胶产业化再度迎来利好消息。近日，武汉太紫微光电科技有限公司（下称“太紫微公司”）成功推出T150 A-光刻胶产品，并已通过半导体工艺量产验证，实现了配方全自主设计。这一成果标志着我国在光刻胶领域取得了重要进展。

T150 A光刻胶产品对标国际头部企业主流KrF光刻胶系列，相较于国外同系列产品UV1610，在光刻工艺中表现出的极限分辨率达120nm，且工艺宽容度更大，稳定性更高。该产品经过验证，密集图形经过刻蚀后，下层介质的侧壁垂直度表现优异，对后道刻蚀工艺更为友好。

太紫微公司由华中科技大学武汉光电国家研究中心团队创立，该团队在电子化学品领域深耕二十余年，具备强大的技术实力。据悉，太紫微公司成立于2024年5月31日，注册资本200万元，实控人为朱明强，最终受益股份77%。朱明强教授为华中科技大学武汉光电国家研究中心二级教授，主要研究领域为有机及纳米光电子学。

虽然T150 A对标的UV1610产品算是“很常用的胶”，门槛不算高，但由于常用所以需求量会比较大。目前，国内已有北京科华、徐州博康等厂商能够生产UV1610产品，市场竞争激烈。然而，太紫微公司凭借其自主设计的配方和优异的产品性能，有望在市场中脱颖而出。

光刻胶产品在客户端验证周期通常需要2年，因此太紫微公司T150 A产品的最终成效还需等待市场与客户的反馈。不过，从目前我国半导体光刻胶国产化率仍处于较低水平的现状来看，太紫微公司的这一成果无疑为国产光刻胶的发展注入了新的活力。

目前，我国半导体光刻胶市场超90%主要依赖进口，本土厂商虽起步较晚，但目前处于国产化加速期。多家国内公司均有G/I线、KrF、ArF胶布局，开发重点为普适性光刻胶和技术难度较低的成熟制程光刻胶。据不完全统计，国内已有多家公司有KrF光刻胶产品布局，如上海新阳、晶瑞电材、鼎龙股份、八亿时空等。

然而，从根本上来说，国产光刻胶的上游原材料还是要依靠进口，需要突破的是配方。目前国产的光刻胶原材料配方稳定性等较国外有差距。因此，国内现在主要研究的是光刻胶原材料配方，以期在降本、突破性能指标、匹配下游客户等方面实现突破。

有新材料领域投资人士表示，关于太紫微公司T150 A产品的客户端验证进展以及后续产品系列的研发计划，目前尚不清楚。但这一成果无疑为国产光刻胶的发展带来了新的希望。

（文章来源：财联社）