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光谷企业武汉太紫微光电科技有限公司推出T150 A光刻胶产品，通过半导体工艺量产验证，实现配方全自主设计，有望开创国内半导体光刻制造新局面。

据中国光谷公众号最新消息，光谷地区的一家企业在半导体专用光刻胶技术上取得了重要进展。武汉太紫微光电科技有限公司（简称“太紫微公司”）成功推出了T150 A光刻胶产品，并通过了半导体工艺量产验证。

这款T150 A光刻胶产品由太紫微公司全自主设计配方，其性能对标国际头部企业主流KrF光刻胶系列。在光刻工艺中，T150 A的极限分辨率达到了120nm，工艺宽容度更大，稳定性更高，坚膜后烘留膜率表现出色，对后道刻蚀工艺也更为友好。验证结果显示，T150 A在密集图形经过刻蚀后，下层介质的侧壁垂直度表现优异，优于国外同系列产品UV1610。

据了解，太紫微公司成立于2024年5月，由华中科技大学武汉光电国家研究中心团队创立，专注于半导体专用高端电子化学品材料的开发。此次T150 A光刻胶产品的成功推出，不仅展示了太紫微公司在光刻胶技术上的创新实力，也为国内半导体产业的发展注入了新的活力。

太紫微公司企业负责人、英国皇家化学会会员、华中科技大学教授朱明强表示，他们团队将继续发展一系列应用于不同场景下的KrF与ArF光刻胶，为国内相关产业带来更多惊喜。同时，太紫微公司还将为材料的分析与验证提供最全面的手段，为半导体制造开辟新型先进光刻制造技术。

太紫微公司的外聘专家顾问向诗力博士也表示，无论是从国内半导体产业崛起的背景来看，还是从摩尔定律演变的规律展望未来，光刻领域都会有很多新技术、新企业涌现。但拥有科技创新的力量是存活下去的必要前提，太紫微公司在这方面已经迈出了坚实的一步。

（文章来源：证券时报网）