光刻胶产业化再度传来积极信号。据东湖国家自主创新示范区官网10月15日消息，武汉太紫微光电科技有限公司（简称“太紫微公司”）成功推出T150 A-光刻胶产品，并通过半导体工艺量产验证，实现配方全自主设计，标志着我国在高端光刻胶领域取得重要进展。

T150 A产品对标国际头部企业主流KrF光刻胶系列，与国外同系列产品UV1610相比，在光刻工艺中展现出极限分辨率达120nm，工艺宽容度更大，稳定性更高，坚膜后烘留膜率优秀等特点，对后道刻蚀工艺更为友好。通过验证发现，T150 A中密集图形经过刻蚀后，下层介质的侧壁垂直度表现优异。

太紫微公司由华中科技大学武汉光电国家研究中心团队创立，该团队在电子化学品领域深耕二十余年，具备强大的技术研发实力。武汉光电国家研究中心是科技部批准建设的国家研究中心之一，具有深厚的科研背景和实力。

太紫微公司成立于2024年5月31日，注册资本200万元，实控人为华中科技大学武汉光电国家研究中心二级教授朱明强，持股77%。朱明强教授主要研究领域为有机及纳米光电子学，研究方向包括光刻制造等。

光刻胶厂商人士表示，国产对标国外厂商UV1610产品的光刻胶量产确实是个好消息，但T150 A对标的UV1610产品虽常用但门槛不算高，市场竞争激烈。目前，北京科华、徐州博康等国内厂商都有能力生产UV1610产品。

尽管T150 A产品已通过半导体工艺量产验证，但最终成效还需看市场与客户的反馈。光刻胶产品在客户端验证周期通常需要2年。

目前，我国半导体光刻胶国产化率仍处于较低水平，KrF、ArF光刻胶对外依赖最为严重，国产化率均仅在1%水平。然而，国内厂商如彤程新材、华懋科技、晶瑞电材、上海新阳等均在积极布局光刻胶市场，开发重点为普适性光刻胶和技术难度较低的成熟制程光刻胶。

据不完全统计，国内已有多家公司有KrF光刻胶产品布局，如上海新阳、晶瑞电材、鼎龙股份、八亿时空、飞凯材料等。然而，国产光刻胶的上游原材料仍依赖进口，需要突破的是配方稳定性等技术领域。

新材料领域产业基金投资人士分析认为，原材料、配方这两大因素较为关键，需要依靠这两部分实现降本、突破性能指标，匹配下游客户等突破。在此基础上，再是生产工艺、设备等方面突破。

关于太紫微公司T150 A产品的客户端验证进展以及后续产品系列的研发计划，截至发稿未获回复。

（文章来源：财联社）