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光谷企业太紫微公司成功推出T150 A光刻胶产品，通过半导体工艺量产验证，实现配方全自主设计，有望开创国内半导体光刻制造新局面。

据中国光谷公众号消息，光谷企业在半导体专用光刻胶领域迎来重大进展。武汉太紫微光电科技有限公司（简称“太紫微公司”）成功推出T150 A光刻胶产品，该产品已通过半导体工艺量产验证，实现了配方全自主设计，标志着国内半导体光刻制造领域取得新突破。

T150 A光刻胶产品对标国际头部企业主流KrF光刻胶系列，在光刻工艺中表现出色。相较于国外同系列产品UV1610，T150 A的极限分辨率达到120nm，工艺宽容度更大，稳定性更高，坚膜后烘留膜率优秀，对后道刻蚀工艺表现更为友好。验证结果显示，T150 A中密集图形经过刻蚀后，下层介质的侧壁垂直度表现优异。

太紫微公司成立于2024年5月，由华中科技大学武汉光电国家研究中心团队创立。公司企业负责人、英国皇家化学会会员、华中科技大学教授朱明强表示，以原材料的开发为起点，最终获得具有自主知识产权的配方技术，这只是个开始，太紫微公司还将发展一系列应用于不同场景下的KrF与ArF光刻胶，为国内相关产业带来更多惊喜。

太紫微公司专注于半导体专用高端电子化学品材料的开发，致力于以新技术路线为半导体制造开辟新型先进光刻制造技术，同时为材料的分析与验证提供最全面的手段。太紫微外聘专家顾问向诗力博士表示，无论是从国内半导体产业崛起的背景来看，还是从摩尔定律演变的规律展望未来，光刻领域将会有更多新技术、新企业崭露头角，但拥有科技创新的力量是存活下去的必要前提。

（文章来源：证券时报网）