东芝量产第三代SiC MOSFET,SiC商业化进程加速
AI导读:
东芝宣布将于8月下旬量产第三代SiC MOSFET,开关损耗降低20%。SiC商业化进程加速,国内外厂商扩产计划密集,国内SiC器件供应商有望把握本土化机会。
在推动第三代半导体商业化的征程中,日本厂商东芝再次迈出重要一步。东芝近日在其官方网站上正式宣布,其最新的第三代SiC MOSFET(碳化硅场效应管)计划于今年8月下旬正式投入量产。这款新产品采用了全新的器件结构,不仅具备低导通电阻的优势,而且与第二代产品相比,开关损耗降低了约20%。
回顾东芝的发展历程,第二代SiC MOSFET已于2020年8月成功量产。今年一季度,东芝宣布将内部生产用于功率半导体的SiC外延片,并投资高达55亿日元用于功率器件的扩产,其中包括建设8英寸的碳化硅和氮化镓生产线。东芝表示,通过采用“外延设备+外延片+器件”的IDM模式,他们有望在未来进一步抢占铁路、海上风力发电、数据中心以及车载等市场。
SiC(碳化硅)在高压、高功率应用场景下展现出了卓越的性能,尤其适用于600V以上的高压场景。因此,电动车及光伏等热门领域对SiC的需求极为旺盛。Wolfspeed、英飞凌以及意法半导体等多家国际知名企业已经相继宣布扩产计划。
从当前的市场竞争格局来看,海外龙头企业如Wolfspeed和II-VI已经占据了60%以上的市场份额,他们不仅实现了6英寸的规模化供应,还在向8英寸迈进。而国内厂家则主要聚焦于小尺寸产品,并逐步向6英寸产品进军。性价比是决定SiC器件能否大批量使用的关键因素,而衬底制备则是提升SiC性价比的核心环节,同时也是技术壁垒最高的部分。
近期,国内碳化硅衬底龙头天岳先进宣布签订了一项价值14亿元的大单。中金证券在近日发布的研报中指出,这一事件不仅在一定程度上反映了SiC器件渗透率的快速提升,以及产业链各环节市场规模有望迎来快速成长期,还显示出国内材料企业在N型SiC导电型衬底方面的技术实力和产能规模都在持续增强。SiC行业的落地进程在今年内已开始明显加速。
中金公司则表示,在新能源车、光伏发电等重点行业终端出货量快速增长的背景下,叠加SiC渗透率提升且短期内器件价格降幅有限的因素,预计2022-2024年将是SiC器件市场规模增速最快的三年周期。尽管中国相关供应商起步较晚,但得益于新能源车、光伏逆变器本土品牌商市场份额的提升,国内企业已经获得了宝贵的入场机会。国内SiC器件供应商有望把握本土化机遇,复制硅基IGBT时代的辉煌。具备全产业一体化(材料、制造、封测)能力的企业将在竞争中占据更大的优势。建议关注三安光电、斯达半导、华润微等上市公司以及部分技术领先的未上市企业。
(图片及文章来源:财联社)
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